天準為掩模生產過程中的測量提供高精度、高重復性系統，適用產品包括但不限于COG和PSM。
針對掩模來料測量，天準提供長距離工作物鏡。測量包括掩模版上CD的分布，同時系統提供可見光和紫外光照明，均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于測量最小300nm的特征尺寸，3sigma重復性通常在納米范圍內。
主要特點
Mask CD測量
最大支持14寸掩模以及定制形狀
可配置可見光、紫外光，支持穿透和反射光
SECS/GEM
長期維護成本低，穩定可靠
主要特點
Mask CD測量
最大支持6寸掩模
可配置可見光、紫外光，支持穿透和反射光
SECS/GEM
長期維護成本低，穩定可靠
主要特點
Mask膜厚，CD測量
可配置可見光、紫外光、紅外光
SECS/GEM
長期維護成本低，穩定可靠
